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一家專(zhuān)業(yè)從事真空鍍膜的民營(yíng)企業(yè)、主要產(chǎn)品包括美容美發(fā)器，家用小電器、電子類(lèi)等
什么是真空鍍膜？
- 分類(lèi)：行業(yè)新聞
- 作者：風(fēng)雨木子
- 來(lái)源：百度百科
- 發(fā)布時(shí)間：2022-03-17 17:00
- 訪(fǎng)問(wèn)量：
【概要描述】? ? ?真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。 簡(jiǎn)述 真空鍍膜是真空應用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎，利用物理或化學(xué)方法完鸦，并吸收電子束、分子束、離子束午迄、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡(jiǎn)單地說(shuō)，在真空中把金屬淤健、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或濺射，使其在被涂覆的物體（稱(chēng)基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱(chēng)為真空鍍膜。 眾所周知滥逛，在某些材料的表面上，只要鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的滔感、良好的物理和化學(xué)性能。20世紀70年代，在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學(xué)鍍法。前者是通過(guò)通電宦悟，使電解液電解，被電解的離子鍍到作為另一個(gè)電極的基體表面上，因此這種鍍膜的條件，基體必須是電的良導體痹仍，而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學(xué)還原法，必須把膜材配制成溶液式冗，并能迅速參加還原反應，這種鍍膜方法不僅薄膜的結合強度差，而且鍍膜既不均勻也不易控制寥钾，同時(shí)還會(huì )產(chǎn)生大量的廢液，造成嚴重的污染。因此乃哟，這兩種被人們稱(chēng)之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制。 真空鍍膜則是相對于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來(lái)的一種新型鍍膜技術(shù)，通常稱(chēng)為干式鍍膜技術(shù)。 特點(diǎn) 真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較，具有下列優(yōu)點(diǎn)： (1)薄膜和基體選材廣泛，薄膜厚度可進(jìn)行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。 (2)在真空條件下制備薄膜饺搬，環(huán)境清潔，薄膜不易受到污染隶吟，因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜镶障。 (3)薄膜與基體結合強度好，薄膜牢固很哑。 (4)干式鍍膜既不產(chǎn)生廢液，也無(wú)環(huán)境污染。 真空鍍膜技術(shù)主要有真空蒸發(fā)鍍瘾难、真空濺射鍍、真空離子鍍选桃、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等多種方法萌朱。除化學(xué)氣相沉積法外，其他幾種方法均具有以下的共同特點(diǎn)： (1)各種鍍膜技術(shù)都需要一個(gè)特定的真空環(huán)境，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或濺射過(guò)程中所形成蒸氣分子的運動(dòng)，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾匠童，并消除大氣中雜質(zhì)的不良影響。 (2)各種鍍膜技術(shù)都需要有一個(gè)蒸發(fā)源或靶子屈移，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉化成氣體。由于源或靶的不斷改進(jìn)，大大擴大了制膜材料的選用范圍橱赠，無(wú)論是金屬、金屬合金庸飘、金屬間化合物、陶瓷或有機物質(zhì)，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜，而且還可以同時(shí)蒸鍍不同材料而得到多層膜。 (3)蒸發(fā)或濺射出來(lái)的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過(guò)程中，對其膜厚可進(jìn)行比較精確的測量和控制绍载，從而保證膜厚的均勻性。 (4)每種薄膜都可以通過(guò)微調閥精確地控制鍍膜室中殘余氣體的成分和質(zhì)量分數，從而防止蒸鍍材料的氧化祸轮，把氧的質(zhì)量分數降低到最小的程度，還可以充入惰性氣體等沥阱，這對于濕式鍍膜而言是無(wú)法實(shí)現的。 (5)由于鍍膜設備的不斷改進(jìn)杯瞻，鍍膜過(guò)程可以實(shí)現連續化，從而大大地提高產(chǎn)品的產(chǎn)量静熊，而且在生產(chǎn)過(guò)程中對環(huán)境無(wú)污染。 (6)由于在真空條件下制膜杯娶，所以薄膜的純度高惫疤、密實(shí)性好、表面光亮不需要再加工，這就使得薄膜的力學(xué)性能和化學(xué)性能比電鍍膜和化學(xué)膜好。? ? ?
什么是真空鍍膜荞扒？
【概要描述】? ? ?真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結于鍍件（金屬挚崇、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等舰鹊。
簡(jiǎn)述
真空鍍膜是真空應用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎镜撩，利用物理或化學(xué)方法指回，并吸收電子束斗遏、分子束镐怔、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)罢防，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡(jiǎn)單地說(shuō)，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或濺射夜柄，使其在被涂覆的物體（稱(chēng)基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱(chēng)為真空鍍膜。
眾所周知唯杖，在某些材料的表面上瞪诚，只要鍍上一層薄膜犬钢，就能使材料具有許多新的义辕、良好的物理和化學(xué)性能。20世紀70年代，在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學(xué)鍍法偿渡。前者是通過(guò)通電邪唤，使電解液電解浙炼，被電解的離子鍍到作為另一個(gè)電極的基體表面上讹蘑，因此這種鍍膜的條件，基體必須是電的良導體，而且薄膜厚度也難以控制用省。后者是采用化學(xué)還原法割粮，必須把膜材配制成溶液，并能迅速參加還原反應，這種鍍膜方法不僅薄膜的結合強度差志笼，而且鍍膜既不均勻也不易控制鲸阔，同時(shí)還會(huì )產(chǎn)生大量的廢液绷冈，造成嚴重的污染。因此旺管，這兩種被人們稱(chēng)之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制。
真空鍍膜則是相對于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來(lái)的一種新型鍍膜技術(shù)衫哥，通常稱(chēng)為干式鍍膜技術(shù)枪炉。
特點(diǎn)
真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較坞江，具有下列優(yōu)點(diǎn)：
(1)薄膜和基體選材廣泛牙荡，薄膜厚度可進(jìn)行控制贮秤，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。
(2)在真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔熊朵，薄膜不易受到污染，因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜川骗。
(3)薄膜與基體結合強度好易祖，薄膜牢固。
(4)干式鍍膜既不產(chǎn)生廢液宵左，也無(wú)環(huán)境污染欠泡。
真空鍍膜技術(shù)主要有真空蒸發(fā)鍍糊啡、真空濺射鍍、真空離子鍍割千、真空束流沉積柬讨、化學(xué)氣相沉積等多種方法。除化學(xué)氣相沉積法外，其他幾種方法均具有以下的共同特點(diǎn)：
(1)各種鍍膜技術(shù)都需要一個(gè)特定的真空環(huán)境咽箕，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或濺射過(guò)程中所形成蒸氣分子的運動(dòng)，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質(zhì)的不良影響灶挟。
(2)各種鍍膜技術(shù)都需要有一個(gè)蒸發(fā)源或靶子霎箍，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉化成氣體。由于源或靶的不斷改進(jìn)，大大擴大了制膜材料的選用范圍，無(wú)論是金屬、金屬合金屈嗤、金屬間化合物、陶瓷或有機物質(zhì)懂该，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜徊典，而且還可以同時(shí)蒸鍍不同材料而得到多層膜。
(3)蒸發(fā)或濺射出來(lái)的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過(guò)程中溯壶，對其膜厚可進(jìn)行比較精確的測量和控制铐跷，從而保證膜厚的均勻性。
(4)每種薄膜都可以通過(guò)微調閥精確地控制鍍膜室中殘余氣體的成分和質(zhì)量分數，從而防止蒸鍍材料的氧化，把氧的質(zhì)量分數降低到最小的程度，還可以充入惰性氣體等惕鼓，這對于濕式鍍膜而言是無(wú)法實(shí)現的净蚤。
(5)由于鍍膜設備的不斷改進(jìn)，鍍膜過(guò)程可以實(shí)現連續化累骚，從而大大地提高產(chǎn)品的產(chǎn)量仪媒，而且在生產(chǎn)過(guò)程中對環(huán)境無(wú)污染。
(6)由于在真空條件下制膜犯纷，所以薄膜的純度高嚷那、密實(shí)性好、表面光亮不需要再加工介牙，這就使得薄膜的力學(xué)性能和化學(xué)性能比電鍍膜和化學(xué)膜好央封。?
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- 分類(lèi)：行業(yè)新聞
- 作者：風(fēng)雨木子
- 來(lái)源：百度百科
- 發(fā)布時(shí)間：2022-03-17 17:00
- 訪(fǎng)問(wèn)量：
真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法闹套。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。
簡(jiǎn)述
真空鍍膜是真空應用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎荚醒，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束启蒜、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡(jiǎn)單地說(shuō)，在真空中把金屬碎领、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或濺射，使其在被涂覆的物體（稱(chēng)基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法烤酌，稱(chēng)為真空鍍膜。
眾所周知，在某些材料的表面上，只要鍍上一層薄膜漾怕，就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學(xué)性能。20世紀70年代犀挠，在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學(xué)鍍法。前者是通過(guò)通電，使電解液電解，被電解的離子鍍到作為另一個(gè)電極的基體表面上蹋偏，因此這種鍍膜的條件，基體必須是電的良導體，而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學(xué)還原法，必須把膜材配制成溶液舷蟀，并能迅速參加還原反應红非，這種鍍膜方法不僅薄膜的結合強度差，而且鍍膜既不均勻也不易控制，同時(shí)還會(huì )產(chǎn)生大量的廢液，造成嚴重的污染责祥。因此芹缔，這兩種被人們稱(chēng)之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制。
真空鍍膜則是相對于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來(lái)的一種新型鍍膜技術(shù)，通常稱(chēng)為干式鍍膜技術(shù)宪赶。
特點(diǎn)
真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較透蛛，具有下列優(yōu)點(diǎn)：
(1)薄膜和基體選材廣泛墨砌，薄膜厚度可進(jìn)行控制揩臊，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。
(2)在真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，薄膜不易受到污染，因此可獲得致密性好颊埃、純度高和涂層均勻的薄膜摘链。
(3)薄膜與基體結合強度好，薄膜牢固。
(4)干式鍍膜既不產(chǎn)生廢液，也無(wú)環(huán)境污染。
真空鍍膜技術(shù)主要有真空蒸發(fā)鍍嫩絮、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等多種方法栏因。除化學(xué)氣相沉積法外，其他幾種方法均具有以下的共同特點(diǎn)：
(1)各種鍍膜技術(shù)都需要一個(gè)特定的真空環(huán)境，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或濺射過(guò)程中所形成蒸氣分子的運動(dòng)，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質(zhì)的不良影響。
(2)各種鍍膜技術(shù)都需要有一個(gè)蒸發(fā)源或靶子，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉化成氣體。由于源或靶的不斷改進(jìn)谬晕，大大擴大了制膜材料的選用范圍，無(wú)論是金屬就悍、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機物質(zhì)，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜靡庵，而且還可以同時(shí)蒸鍍不同材料而得到多層膜蹂喻。
(3)蒸發(fā)或濺射出來(lái)的制膜材料酷她，在與待鍍的工件生成薄膜的過(guò)程中专暮，對其膜厚可進(jìn)行比較精確的測量和控制讶桂，從而保證膜厚的均勻性瞎疼。
(4)每種薄膜都可以通過(guò)微調閥精確地控制鍍膜室中殘余氣體的成分和質(zhì)量分數闭懦，從而防止蒸鍍材料的氧化鄙才，把氧的質(zhì)量分數降低到最小的程度跌仗，還可以充入惰性氣體等，這對于濕式鍍膜而言是無(wú)法實(shí)現的禁糖。
(5)由于鍍膜設備的不斷改進(jìn)，鍍膜過(guò)程可以實(shí)現連續化，從而大大地提高產(chǎn)品的產(chǎn)量，而且在生產(chǎn)過(guò)程中對環(huán)境無(wú)污染。
(6)由于在真空條件下制膜，所以薄膜的純度高柠满、密實(shí)性好、表面光亮不需要再加工凸粗，這就使得薄膜的力學(xué)性能和化學(xué)性能比電鍍膜和化學(xué)膜好。
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